EO katı hal lazeri EF20P-QSF

EO (EdgeWave) lazer EF20P-QSF işlevi ve prensip detayları

EO EF20P-QSF, yarı iletken pompalı katı hal lazeri (DPSS) teknolojisini kullanan ve hassas işleme, lazer markalama, LIBS (lazer kaynaklı bozulma spektroskopisi) ve bilimsel araştırma uygulamaları için uygun olan yüksek güçlü, yüksek tekrarlama oranına sahip nanosaniye Q-anahtarlı lazerdir.

1. Temel işlevler

(1) Yüksek güç ve yüksek darbe enerjisi

Ortalama güç: 20 W (@1064 nm).

Tek darbe enerjisi: 1 mJ'e kadar (tekrarlama oranına bağlı olarak).

Tekrarlama oranı: 1–200 kHz (ayarlanabilir), farklı işleme gereksinimlerini karşılamak için.

(2) Mükemmel ışın kalitesi

M² < 1,3 (difraksiyon sınırına yakın), ince mikroişlemeye uygundur.

Gauss ışını, küçük odak noktası, yüksek enerji yoğunluğu.

(3) Esnek nabız kontrolü

Ayarlanabilir darbe genişliği: 10–50 ns (tipik değer), farklı malzemelerin işleme etkisini optimize etmek için.

Harici tetikleyici: TTL/PWM modülasyonunu destekler, otomasyon sistemleriyle uyumludur.

(4) Endüstriyel düzeyde güvenilirlik

Tamamen katı hal tasarımı (lambasız pompalama), kullanım ömrü >20.000 saat.

Hava soğutma/su soğutma opsiyoneldir, farklı çalışma ortamlarına uyum sağlar.

2. Çalışma prensibi

EF20P-QSF, Q-anahtarlı DPSS lazer teknolojisine dayanmaktadır ve temel işlem süreci aşağıdaki gibidir:

(1) Yarı iletken pompalama (LD Pompalama)

Lazer diyot (LD), nadir toprak iyonlarını (Nd³⁺) metastabil enerji seviyelerine uyarmak için Nd:YVO₄ veya Nd:YAG kristalini pompalar.

(2) Q-anahtarlı darbe üretimi

Akusto-optik Q-anahtarlama (AO Q-Anahtarı) veya elektro-optik Q-anahtarlama (EO Q-Anahtarı), rezonans boşluğunun Q değerini hızla değiştirir ve enerji biriktirdikten sonra yüksek güçlü nanosaniye darbeleri yayar.

(3) Dalga boyu dönüşümü (isteğe bağlı)

Senkron frekans üretimi (SHG) ve üçlü frekans üretimi (THG), doğrusal olmayan kristaller (LBO, KTP gibi) aracılığıyla gerçekleştirilir ve çıkış 532 nm (yeşil ışık) veya 355 nm'dir (ultraviyole ışık).

(4) Işın şekillendirme ve çıkış

Yüksek enerji yoğunluğu ve işleme doğruluğunu garantilemek için çıkış, bir ışın genişletici/odaklayıcı mercek ile optimize edilir.

3. Tipik uygulamalar

(1) Hassas işleme

Kırılgan malzemelerin kesimi (cam, safir, seramik).

Mikro delme (PCB, yakıt enjektörü, elektronik komponentler).

(2) Lazer markalama

Yüksek kontrastlı metal markalama (paslanmaz çelik, alüminyum alaşımı).

Plastik/seramik gravür (ısıl hasar yok).

(3) Bilimsel araştırma ve test

LIBS (elemental analiz): yüksek darbe enerjili uyarım plazması.

Lazer radar (LIDAR): atmosferik algılama, mesafe ölçümü.

(4) Tıbbi ve güzellik

Cilt bakımı (pigmentasyon giderme, dövme silme).

Diş sert doku tedavisi (hassas ablasyon).

4. Teknik parametreler (tipik değerler)

Parametreler EF20P-QSF (1064 nm) EF20P-QSF (532 nm)

Dalga boyu 1064 nm 532 nm (çift frekans)

Ortalama güç 20 W 10 W

Tek darbe enerjisi 1 mJ (@20 kHz) 0,5 mJ (@20 kHz)

Tekrarlama oranı 1–200 kHz 1–200 kHz

Darbe genişliği 10–50 ns 8–30 ns

Kiriş kalitesi (M²) <1,3 <1,5

Soğutma yöntemi Hava soğutma/su soğutma Hava soğutma/su soğutma

5. Rekabetçi ürünlerin karşılaştırılması (EF20P-QSF ve fiber/CO₂ lazer)

Özellikler EF20P-QSF (DPSS) Fiber lazer CO₂ lazer

Dalga boyu 1064/532/355 nm 1060–1080 nm 10,6 μm

Darbe enerjisi Yüksek (mJ seviyesi) Düşük (µJ–mJ) Yüksek (ancak büyük termal etkiyle)

Kiriş kalitesi M² <1,3 M² <1,1 M² ~1,2–2

Uygulanabilir malzemeler Metal/metal olmayan Metal bazlı Metal olmayan (plastik/organik)

Bakım gereksinimleri Düşük (lamba pompalaması yok) Çok düşük Gaz/lens ayarlaması gerekiyor

6. Avantajların özeti

Yüksek darbe enerjisi: Yüksek darbeli işleme (delme, LIBS) için uygundur.

Mükemmel ışın kalitesi: hassas mikroişleme (M²<1,3).

Endüstriyel düzeyde kararlılık: Tamamen katı hal tasarımı, uzun ömür, bakım gerektirmez.

Birden fazla dalga boyu mevcuttur: 1064 nm/532 nm/355 nm, farklı malzemeler için uygundur.

Uygulanabilir endüstriler: elektronik imalatı, bilimsel araştırma deneyleri, tıbbi güzellik, havacılık vb.