RPMC Industriell pikosekundlaser neoMOS-70ps

Produktöversikt och teknisk bakgrund

neoMOS-70ps är en enastående representant för pikosekundlasersystem av industriell kvalitet utvecklade av neoLASE i Tyskland, och är en medlem av neoMOS ultrakorta pulslaserserien. Serien innehåller modeller med olika pulsbredder, från femtosekund neoMOS 700fs till picosecond neoMOS 10ps och neoMOS 70ps, vilket bildar en komplett ultrakort pulslaserlösning7. neoMOS-70ps är speciellt designad för industriella kontinuerliga produktionsmiljöer, integrerar avancerad fiberoscillatorteknik med pålitlig solid state-förstärkararkitektur och uppvisar enastående prestanda inom området precisionsmikrobearbetning.

Ur tekniska källors perspektiv representerar neoMOS-serien den professionella ackumuleringen av neoLASE inom området solid state-lasrar, och dess designfilosofi betonar balansen mellan "tillförlitlighet" och "lågt underhåll"1. Jämfört med traditionella ultrasnabba lasersystem överger neoMOS-70ps den komplexa CPA-tekniken (chirped pulse amplification) och antar en enklare och effektivare MOPA-struktur (master oscillator power amplifier), som inte bara minskar systemstorleken, utan också avsevärt förbättrar energiomvandlingseffektiviteten. Detta designkoncept svarar mot industrins akuta behov av miniatyrisering och integrering av utrustning, vilket gör att storleken på laserhuvudet styrs till fantastiska 330 mm×220 mm×90 mm (15W version), vilket avsevärt underlättar systemintegration.

Kärnkonkurrenskraften hos neoMOS-70ps återspeglas i dess industriella hållbarhet. Utrustningen är designad för 24/7 kontinuerlig drift, och medeltiden mellan fel (MTBF) överstiger vida den för lasrar på laboratorienivå, tack vare den redundanta designen av nyckelkomponenter och strikta miljöanpassningstester7. Lasersystemet antar en modulär arkitektur, huvudsakligen med fem delar: frökälla (fiberoscillator), förförstärkare, huvudförstärkare, övertonsgenerator (tillval) och styrenhet. Bland dem är frökällan baserad på tillförlitlig laserdiodpumpning för att generera initiala pikosekundpulser; förstärkarsteget använder solid-state-förstärkningsteknik för att säkerställa pulsegenskapernas trohet under energiförstärkning.

Ur marknadspositioneringens perspektiv är neoMOS-70ps främst inriktat på fältet högprecisionsmaterialbearbetning, inklusive men inte begränsat till solcells- och elektronisk produktproduktion, displayglasbearbetning och säkerhets- och dekorativa märkningstillämpningar. I dessa områden ger 70ps pulsbredden idealisk värmepåverkad zonkontroll samtidigt som man undviker komplexiteten och kostnaderna för ultrakorta pulser (som femtosekundlasrar). Lasern stöder flexibel repetitionsfrekvensjustering (från enkel till 80MHz) och pulsenergikontroll (upp till 250μJ), som kan anpassas till olika bearbetningsbehov.

Tekniska parametrar och prestandaegenskaper

neoMOS-70ps pikosekundlasern har utmärkt prestanda i många tekniska parametrar på grund av sin sofistikerade tekniska design, som helt uppfyller behoven för industriell precisionsbearbetning. En djup förståelse för dessa tekniska indikatorer är avgörande för val av utrustning, processutveckling och systemintegration. Detta avsnitt kommer att analysera laserns kärnparametrar och den tekniska innebörden bakom dem i detalj för att hjälpa användarna att till fullo förstå utrustningens prestandaegenskaper.

Grundläggande utgångsegenskaper

Den centrala våglängden för neoMOS-70ps är 1064nm, vilket tillhör det nära-infraröda spektrumområdet. Denna våglängd har lämpliga absorptionsegenskaper för en mängd olika industriella material och kan effektivt omvandlas till grönt ljus (532nm) eller ultraviolett ljus (355nm/266nm) genom olinjära kristaller för att möta speciella applikationskrav24. Lasern ger en genomsnittlig uteffekt på 15W, vilket är en medelhög till hög effektnivå bland pikosekundlasrar och räcker för de flesta mikrobearbetningsuppgifter. Dess enkelpulsenergi kan nå 250μJ, vilket ger tillräcklig energigaranti för bearbetning av högtröskelmaterial.

Pulsbredden är namngrunden och kärnan i neoMOS-70ps, som styrs exakt vid 70 pikosekunder (70 000 femtosekunder)4. Detta pulsbreddsområde balanserar på ett skickligt sätt bearbetningsnoggrannhet och systemkomplexitet - jämfört med nanosekundlasrar reduceras den värmepåverkade zonen avsevärt, och risken för optisk skada orsakad av den extremt höga toppeffekten hos femtosekundslasrar undviks. Lasern stöder ett brett utbud av repetitionsfrekvensjusteringar från enstaka emissioner till 80MHz, och användare kan flexibelt välja enligt krav på bearbetningseffektivitet och noggrannhet2. Det är värt att notera att enheten kan utrustas med "Burst-läge" (pulstågsläge), vilket kan uppnå komplex pulssekvensutgång utan extern triggning för att möta speciella materialbearbetningsbehov.