Láser de estado sólido EO EF20P-QSF

Detalles del principio y la función del láser EO (EdgeWave) EF20P-QSF

EO EF20P-QSF es un láser Q-switched de nanosegundos de alta potencia y alta tasa de repetición que utiliza tecnología de láser de estado sólido bombeado por semiconductores (DPSS) y es adecuado para mecanizado de precisión, marcado láser, LIBS (espectroscopía de ruptura inducida por láser) y aplicaciones de investigación científica.

1. Funciones principales

(1) Alta potencia y alta energía de pulso

Potencia media: 20 W (@1064 nm).

Energía de pulso único: hasta 1 mJ (dependiendo de la frecuencia de repetición).

Frecuencia de repetición: 1–200 kHz (ajustable), para satisfacer diferentes requisitos de procesamiento.

(2) Excelente calidad del haz

M² < 1,3 (cerca del límite de difracción), adecuado para micromecanizado fino.

Haz gaussiano, punto focal pequeño, alta densidad de energía.

(3) Control de pulso flexible

Ancho de pulso ajustable: 10–50 ns (valor típico), para optimizar el efecto de procesamiento de diferentes materiales.

Disparador externo: admite modulación TTL/PWM, compatible con sistemas de automatización.

(4) Confiabilidad de grado industrial

Diseño totalmente de estado sólido (bombeo sin lámpara), vida útil >20.000 horas.

Refrigeración por aire/refrigeración por agua opcional, se adapta a diferentes entornos de trabajo.

2. Principio de funcionamiento

EF20P-QSF se basa en la tecnología láser DPSS conmutada por Q y el proceso principal es el siguiente:

(1) Bombeo de semiconductores (bombeo LD)

El diodo láser (LD) bombea cristales de Nd:YVO₄ o Nd:YAG para excitar iones de tierras raras (Nd³⁺) a niveles de energía metaestables.

(2) Generación de pulsos conmutados por Q

La conmutación Q acústico-óptica (AO Q-Switch) o la conmutación Q electro-óptica (EO Q-Switch) cambia rápidamente el valor Q de la cavidad resonante y libera pulsos de nanosegundos de alta potencia después de acumular energía.

(3) Conversión de longitud de onda (opcional)

La generación de frecuencia sincrónica (SHG) y la generación de frecuencia triple (THG) se realizan a través de cristales no lineales (como LBO, KTP), y la salida es de 532 nm (luz verde) o 355 nm (luz ultravioleta).

(4) Conformación y salida del haz

La salida se optimiza mediante un expansor de haz/lente de enfoque para garantizar una alta densidad de energía y precisión de procesamiento.

3. Aplicaciones típicas

(1) Mecanizado de precisión

Corte de materiales frágiles (vidrio, zafiro, cerámica).

Microperforación (PCB, inyectores de combustible, componentes electrónicos).

(2) Marcado láser

Marcado de metales de alto contraste (acero inoxidable, aleación de aluminio).

Grabado en plástico/cerámica (sin daño térmico).

(3) Investigación y pruebas científicas

LIBS (análisis elemental): plasma de excitación de alta energía de pulso.

Radar láser (LIDAR): detección atmosférica, medición de distancias.

(4) Médica y estética

Tratamiento de la piel (eliminación de pigmentación, eliminación de tatuajes).

Tratamiento de tejidos duros dentales (ablación de precisión).

4. Parámetros técnicos (valores típicos)

Parámetros EF20P-QSF (1064 nm) EF20P-QSF (532 nm)

Longitud de onda 1064 nm 532 nm (doble frecuencia)

Potencia media 20 W 10 W

Energía de pulso único 1 mJ (@20 kHz) 0,5 mJ (@20 kHz)

Frecuencia de repetición 1–200 kHz 1–200 kHz

Ancho de pulso 10–50 ns 8–30 ns

Calidad del haz (M²) <1,3 <1,5

Método de enfriamiento Refrigeración por aire/refrigeración por agua Refrigeración por aire/refrigeración por agua

5. Comparación de productos de la competencia (EF20P-QSF vs. láser de fibra/CO₂)

Características EF20P-QSF (DPSS) Láser de fibra Láser de CO₂

Longitud de onda 1064/532/355 nm 1060–1080 nm 10,6 μm

Energía del pulso Alta (nivel mJ) Baja (µJ–mJ) Alta (pero con gran impacto térmico)

Calidad del haz M² <1,3 M² <1,1 M² ~1,2–2

Materiales aplicables Metal/no metal A base de metal No metal (plástico/orgánico)

Requisitos de mantenimiento Bajo (sin bombeo de lámpara) Muy bajo Necesidad de ajustar el gas/lente

6. Resumen de ventajas

Alta energía de pulso: adecuada para procesamiento de alto impacto (perforación, LIBS).

Excelente calidad del haz: micromecanizado de precisión (M²<1,3).

Estabilidad de grado industrial: diseño totalmente de estado sólido, larga vida útil, sin mantenimiento.

Múltiples longitudes de onda disponibles: 1064 nm/532 nm/355 nm, adecuadas para diferentes materiales.

Industrias aplicables: fabricación electrónica, experimentos de investigación científica, belleza médica, aeroespacial, etc.