Laser de estado sólido EO nanosegundo EF40

Explicação detalhada da função e do papel do laser EO (EdgeWave) EF40

EO EF40 é um laser de estado sólido comutado em nanossegundos de alta potência e alta taxa de repetição que usa tecnologia de bombeamento de semicondutores (DPSS) e é adequado para usinagem de precisão industrial, marcação a laser, microperfuração e aplicações de pesquisa científica. Suas principais vantagens estão na alta energia de pulso, excelente qualidade de feixe e design de longa vida útil, o que é particularmente adequado para cenários com altos requisitos de precisão e estabilidade de usinagem.

1. Funções principais

(1) Alta potência e alta energia de pulso

Potência média: 40 W (@1064 nm), alguns modelos podem chegar a 60 W.

Energia de pulso único: até 2 mJ (dependendo da taxa de repetição).

Taxa de repetição: 1–300 kHz (ajustável), para atender a diferentes requisitos de processamento.

(2) Excelente qualidade do feixe

M² < 1,3 (próximo ao limite de difração), pequeno ponto focal, energia concentrada.

Feixe gaussiano, adequado para microusinagem de alta precisão.

(3) Controle de pulso flexível

Largura de pulso ajustável: 10–50 ns (valor típico), otimizando o efeito de processamento de diferentes materiais.

Gatilho externo: suporta modulação TTL/PWM, compatível com sistemas de controle automático.

(4) Confiabilidade de nível industrial

Design totalmente em estado sólido (sem bomba de lâmpada), vida útil >20.000 horas.

Resfriamento a ar ou a água opcional, adapta-se a diferentes ambientes de trabalho.

2. Principais áreas de aplicação

(1) Microusinagem de precisão

Corte de materiais frágeis: vidro, safira, cerâmica (pequeno impacto térmico).

Microperfuração: placas de circuito impresso, bicos de combustível, componentes eletrônicos (alta precisão).

Remoção de película fina: células solares, corrosão da camada condutora de ITO.

(2) Marcação e gravação a laser

Marcação de metal: aço inoxidável, liga de alumínio, liga de titânio (alto contraste).

Gravação em plástico/cerâmica: sem carbonização, bordas nítidas.

(3) Pesquisa e testes científicos

LIBS (espectroscopia de ruptura induzida por laser): plasma de excitação de pulso de alta energia para análise elementar.

Radar Laser (LIDAR): detecção atmosférica, alcance de sensoriamento remoto.

(4) Medicina e beleza

Tratamento de pele: remoção de pigmentos, remoção de tatuagens (o modelo de 532 nm é melhor).

Aplicações odontológicas: ablação de tecidos duros, clareamento dental.

3. Parâmetros técnicos (valores típicos)

Parâmetros EF40 (1064 nm) EF40 (532 nm, opcional)

Comprimento de onda 1064 nm 532 nm (frequência dobrada)

Potência média 40 W 20 W

Energia de pulso 2 mJ (@20 kHz) 1 mJ (@20 kHz)

Taxa de repetição 1–300 kHz 1–300 kHz

Largura de pulso 10–50 ns 8–30 ns

Qualidade do feixe (M²) <1,3 <1,5

Método de resfriamento Resfriamento a ar/resfriamento a água Resfriamento a ar/resfriamento a água

4. Comparação de produtos concorrentes (EF40 vs. laser de fibra/CO₂)

Características Laser de fibra EF40 (DPSS) Laser de CO₂

Comprimento de onda 1064/532 nm 1060–1080 nm 10,6 μm

Energia de pulso Alta (nível de mJ) Baixa (µJ–mJ) Alta (mas com grande impacto térmico)

Qualidade do feixe M² <1,3 M² <1,1 M² ~1,2–2

Materiais aplicáveis ​​Metal/não metálico Baseado em metal Não metálico (plástico/orgânico)

Requisitos de manutenção Baixo (bombeamento sem lâmpada) Muito baixo Necessidade de ajuste de gás/lente

5. Resumo das vantagens

Alta energia de pulso: adequada para processamento de alto impacto, como perfuração e corte.

Excelente qualidade de feixe: microusinagem de precisão (M²<1,3).

Estabilidade de nível industrial: design totalmente em estado sólido, longa vida útil, livre de manutenção.

Vários comprimentos de onda disponíveis: 1064 nm (infravermelho) e 532 nm (luz verde) estão disponíveis para se adaptar a diferentes materiais.

Indústrias aplicáveis:

Fabricação eletrônica (PCB, semicondutor)

Usinagem de precisão (vidro, cerâmica)

Experimentos de pesquisa científica (LIBS, LIDAR)

Beleza médica (tratamento de pele, odontologia