لیزر حالت جامد EO EF20P-QSF

عملکرد لیزر EO (EdgeWave) EF20P-QSF و جزئیات اصلی

EO EF20P-QSF یک لیزر نانوثانیه سوئیچ‌شونده Q با توان و سرعت بالا است که از فناوری لیزر حالت جامد پمپ‌شده با نیمه‌رسانا (DPSS) استفاده می‌کند و برای ماشین‌کاری دقیق، علامت‌گذاری لیزری، LIBS (شکست ناشی از لیزر و کاربردهای تحقیقات علمی) مناسب است.

1. توابع اصلی

(1) توان بالا و انرژی پالس بالا

توان متوسط: 20 وات (@1064 نانومتر).

انرژی تک پالس: تا 1 میلی ژول (بسته به سرعت تکرار).

نرخ تکرار: 1-200 کیلوهرتز (قابل تنظیم)، برای برآوردن نیازهای مختلف پردازش.

(2) کیفیت پرتو عالی

M² < 1.3 (نزدیک به حد پراش)، مناسب برای ریزماشینکاری خوب.

پرتو گاوسی، نقطه تمرکز کوچک، چگالی انرژی بالا.

(3) کنترل پالس انعطاف پذیر

عرض پالس قابل تنظیم: 10-50 ns (مقدار معمولی)، برای بهینه سازی اثر پردازش مواد مختلف.

ماشه خارجی: از مدولاسیون TTL/PWM، سازگار با سیستم های اتوماسیون پشتیبانی می کند.

(4) قابلیت اطمینان در سطح صنعتی

طراحی کاملاً جامد (پمپاژ بدون لامپ)، طول عمر بیش از 20000 ساعت.

خنک کننده هوا / خنک کننده آب اختیاری است، با محیط های کاری مختلف سازگار است.

2. اصل کار

EF20P-QSF مبتنی بر فناوری لیزر DPSS با سوئیچ Q است و فرآیند اصلی به شرح زیر است:

(1) پمپاژ نیمه هادی (LD Pumping)

دیود لیزر (LD) کریستال Nd:YVO4 یا Nd:YAG را پمپ می کند تا یون های خاکی کمیاب (Nd3+) را به سطوح انرژی ناپایدار برانگیزد.

(2) تولید پالس سوئیچ کیو

سوئیچینگ آکوستواپتیک Q (AO Q-Switch) یا سوئیچ الکترواپتیک Q (EO Q-Switch) به سرعت مقدار Q حفره تشدید را تغییر می دهد و پس از انباشت انرژی، پالس های نانوثانیه ای با توان بالا را آزاد می کند.

(3) تبدیل طول موج (اختیاری)

تولید فرکانس سنکرون (SHG) و تولید فرکانس سه گانه (THG) از طریق کریستال های غیرخطی (مانند LBO، KTP) انجام می شود و خروجی آن 532 نانومتر (نور سبز) یا 355 نانومتر (نور ماوراء بنفش) است.

(4) شکل دهی و خروجی پرتو

خروجی توسط یک لنز بسط دهنده/فوکوس کننده پرتو بهینه شده است تا از چگالی انرژی بالا و دقت پردازش اطمینان حاصل شود.

3. برنامه های کاربردی معمولی

(1) ماشینکاری دقیق

برش مواد شکننده (شیشه، یاقوت کبود، سرامیک).

حفاری میکرو (PCB، انژکتور سوخت، قطعات الکترونیکی).

(2) علامت گذاری لیزری

علامت فلزی با کنتراست بالا (فولاد ضد زنگ، آلیاژ آلومینیوم).

حکاکی پلاستیک/سرامیک (بدون آسیب حرارتی).

(3) تحقیق و آزمایش علمی

LIBS (تجزیه و تحلیل عنصری): پلاسمای تحریک با انرژی پالس بالا.

رادار لیزری (LIDAR): تشخیص اتمسفر، برد.

(4) پزشکی و زیبایی

درمان پوست (حذف رنگدانه، پاک کردن تاتو).

درمان بافت سخت دندان (ابلیشن دقیق).

4. پارامترهای فنی (مقادیر معمولی)

پارامترهای EF20P-QSF (1064 نانومتر) EF20P-QSF (532 نانومتر)

طول موج 1064 نانومتر 532 نانومتر (فرکانس دوگانه)

توان متوسط ​​20 وات 10 وات

انرژی تک پالس 1 mJ (@20 kHz) 0.5 mJ (@20 kHz)

سرعت تکرار 1-200 کیلوهرتز 1-200 کیلوهرتز

عرض پالس 10-50 ns 8-30 ns

کیفیت پرتو (M²) <1.3 <1.5

روش خنک کننده هوا خنک کننده / خنک کننده آب خنک کننده هوا / خنک کننده آب

5. مقایسه محصولات رقیب (EF20P-QSF در مقابل لیزر فیبر/CO2)

دارای لیزر فیبر CO2 EF20P-QSF (DPSS).

طول موج 1064/532/355 نانومتر 1060-1080 نانومتر 10.6 میکرومتر

انرژی پالس زیاد (میزان میلی‌ژول) کمتر (µJ–mJ) زیاد (اما با تأثیر حرارتی زیاد)

کیفیت پرتو M² <1.3 M² <1.1 M² ~ 1.2–2

مواد قابل استفاده فلز/غیر فلز غیرفلز مبتنی بر فلز (پلاستیک/ارگانیک)

نیازهای تعمیر و نگهداری کم (بدون پمپاژ لامپ) بسیار کم نیاز به تنظیم گاز/عدسی

6. خلاصه مزایا

انرژی پالس بالا: مناسب برای پردازش ضربه بالا (حفاری، LIBS).

کیفیت پرتو عالی: ریزماشین کاری دقیق (M²<1.3).

پایداری درجه صنعتی: طراحی کاملاً جامد، عمر طولانی، بدون تعمیر و نگهداری.

طول موج های چندگانه موجود: 1064 نانومتر/532 نانومتر/355 نانومتر، مناسب برای مواد مختلف.

صنایع قابل اجرا: تولید الکترونیک، آزمایشات تحقیقات علمی، زیبایی پزشکی، هوا فضا و غیره.