EO solid-state laser EF20P-QSF

EO (EdgeWave) laser EF20P-QSF funksjon og prinsippdetaljer

EO EF20P-QSF er en høyeffekts nanosekund Q-svitsjet laser med høy repetisjonshastighet som bruker halvlederpumpet solid-state laser (DPSS) teknologi og er egnet for presisjonsmaskinering, lasermerking, LIBS (laser-indusert nedbrytningsspektroskopi) og vitenskapelige forskningsapplikasjoner.

1. Kjernefunksjoner

(1) Høy effekt og høy pulsenergi

Gjennomsnittlig effekt: 20 W (@1064 nm).

Enkeltpulsenergi: opptil 1 mJ (avhengig av repetisjonsfrekvensen).

Gjentakelseshastighet: 1–200 kHz (justerbar), for å møte ulike behandlingskrav.

(2) Utmerket strålekvalitet

M² < 1,3 (nær diffraksjonsgrensen), egnet for finmikromaskinering.

Gaussisk stråle, liten fokuspunkt, høy energitetthet.

(3) Fleksibel pulskontroll

Justerbar pulsbredde: 10–50 ns (typisk verdi), for å optimalisere prosesseringseffekten til forskjellige materialer.

Ekstern trigger: støtter TTL/PWM-modulasjon, kompatibel med automasjonssystemer.

(4) Industriell pålitelighet

Hel-solid-state design (lampefri pumping), levetid >20 000 timer.

Luftkjøling/vannkjøling valgfritt, tilpasses ulike arbeidsmiljøer.

2. Arbeidsprinsipp

EF20P-QSF er basert på Q-switched DPSS laserteknologi, og kjerneprosessen er som følger:

(1) Halvlederpumping (LD-pumping)

Laserdiode (LD) pumper Nd:YVO₄ eller Nd:YAG krystaller for å eksitere sjeldne jordarter (Nd³⁺) til metastabile energinivåer.

(2) Q-svitsjet pulsgenerering

Akusto-optisk Q-switch (AO Q-Switch) eller elektro-optisk Q-switch (EO Q-Switch) bytter raskt om resonanshulrommets Q-verdi, og frigjør høyeffekts nanosekundpulser etter å ha akkumulert energi.

(3) Bølgelengdekonvertering (valgfritt)

Synkron frekvensgenerering (SHG) og trippelfrekvensgenerering (THG) utføres gjennom ikke-lineære krystaller (som LBO, KTP), og utgangen er 532 nm (grønt lys) eller 355 nm (ultrafiolett lys).

(4) Stråleforming og utgang

Utgangen er optimalisert av en stråleutvider/fokuseringslinse for å sikre høy energitetthet og prosesseringsnøyaktighet.

3. Typiske bruksområder

(1) Presisjonsmaskinering

Kutting av sprø materialer (glass, safir, keramikk).

Mikroboring (PCB, drivstoffinjektor, elektroniske komponenter).

(2) Lasermerking

Høykontrast metallmerking (rustfritt stål, aluminiumslegering).

Plast/keramisk gravering (ingen termisk skade).

(3) Vitenskapelig forskning og testing

LIBS (elementanalyse): eksitasjonsplasma med høy pulsenergi.

Laserradar (LIDAR): atmosfærisk deteksjon, rekkevidde.

(4) Medisinsk og skjønnhet

Hudbehandling (fjerning av pigmentering, fjerning av tatoveringer).

Dental hardvevsbehandling (presisjonsablasjon).

4. Tekniske parametere (typiske verdier)

Parametere EF20P-QSF (1064 nm) EF20P-QSF (532 nm)

Bølgelengde 1064 nm 532 nm (dobbel frekvens)

Gjennomsnittlig effekt 20 W 10 W

Enkeltpulsenergi 1 mJ (@20 kHz) 0,5 mJ (@20 kHz)

Gjentakelsesfrekvens 1–200 kHz 1–200 kHz

Pulsbredde 10–50 ns 8–30 ns

Strålekvalitet (M²) <1,3 <1,5

Kjølemetode Luftkjøling/vannkjøling Luftkjøling/vannkjøling

5. Sammenligning av konkurrerende produkter (EF20P-QSF vs. fiber/CO₂-laser)

Har EF20P-QSF (DPSS) fiberlaser CO₂-laser

Bølgelengde 1064/532/355 nm 1060–1080 nm 10,6 μm

Pulsenergi Høy (mJ nivå) Lavere (µJ–mJ) Høy (men med stor termisk påvirkning)

Strålekvalitet M² <1,3 M² <1,1 M² ~1,2–2

Gjeldende materialer Metall/ikke-metall Metallbasert Ikke-metall (plast/organisk)

Vedlikeholdskrav Lav (ingen lampepumping) Svært lav Behov for å justere gass/linse

6. Fordeler sammendrag

Høy pulsenergi: egnet for prosessering med høy slagkraft (boring, LIBS).

Utmerket strålekvalitet: presisjonsmikromaskinering (M²<1,3).

Stabilitet i industriell kvalitet: hel-solid-state design, lang levetid, vedlikeholdsfri.

Flere tilgjengelige bølgelengder: 1064 nm/532 nm/355 nm, egnet for forskjellige materialer.

Gjeldende bransjer: elektronisk produksjon, vitenskapelige forskningseksperimenter, medisinsk skjønnhet, romfart, etc.