EO Nanoseconde Vaste-toestandlaser EF40

EO (EdgeWave) laser EF40 functie en rol gedetailleerde uitleg

EO EF40 is een nanoseconde Q-switched solid-state laser met hoog vermogen en hoge herhalingsfrequentie die gebruikmaakt van semiconductor pumping (DPSS)-technologie en geschikt is voor industriële precisiebewerking, lasermarkering, microboren en wetenschappelijke onderzoekstoepassingen. De belangrijkste voordelen liggen in hoge pulsenergie, uitstekende straalkwaliteit en een ontwerp met een lange levensduur, wat met name geschikt is voor scenario's met hoge vereisten voor bewerkingsnauwkeurigheid en stabiliteit.

1. Kernfuncties

(1) Hoog vermogen en hoge pulsenergie

Gemiddeld vermogen: 40 W (@1064 nm), sommige modellen kunnen 60 W bereiken.

Enkele pulsenergie: tot 2 mJ (afhankelijk van de herhalingsfrequentie).

Herhalingsfrequentie: 1–300 kHz (instelbaar), om te voldoen aan verschillende verwerkingsvereisten.

(2) Uitstekende straalkwaliteit

M² < 1,3 (dichtbij de diffractielimiet), kleine focusvlek, geconcentreerde energie.

Gaussische bundel, geschikt voor zeer nauwkeurige microbewerking.

(3) Flexibele pulsregeling

Instelbare pulsbreedte: 10–50 ns (typische waarde), optimaliseert het verwerkingseffect van verschillende materialen.

Externe trigger: ondersteunt TTL/PWM-modulatie, compatibel met automatische besturingssystemen.

(4) Betrouwbaarheid van industriële kwaliteit

Volledig solid-state ontwerp (geen lamppomp), levensduur >20.000 uur.

Optioneel met lucht- of waterkoeling, geschikt voor verschillende werkomgevingen.

2. Belangrijkste toepassingsgebieden

(1) Precisie-microbewerking

Snijden van brosse materialen: glas, saffier, keramiek (kleine thermische impact).

Microboren: PCB-printplaten, brandstofsproeiers, elektronische componenten (hoge precisie).

Verwijderen van dunne films: zonnecellen, etsen van ITO-geleidende lagen.

(2) Lasermarkering en -gravering

Metaalmarkering: roestvrij staal, aluminiumlegering, titaniumlegering (hoog contrast).

Gravure van kunststof/keramiek: geen carbonisatie, heldere randen.

(3) Wetenschappelijk onderzoek en testen

LIBS (laser induced breakdown spectroscopy): plasma met hoge-energiepuls-excitatie voor elementanalyse.

Laserradar (LIDAR): atmosferische detectie, afstandsmeting.

(4) Medisch en schoonheid

Huidbehandeling: pigmentverwijdering, tatoeageverwijdering (model 532 nm is beter).

Tandheelkundige toepassingen: verwijdering van hard weefsel, bleken van tanden.

3. Technische parameters (typische waarden)

Parameters EF40 (1064 nm) EF40 (532 nm, optioneel)

Golflengte 1064 nm 532 nm (verdubbelde frequentie)

Gemiddeld vermogen 40 W 20 W

Pulsenergie 2 mJ (@20 kHz) 1 mJ (@20 kHz)

Herhalingsfrequentie 1–300 kHz 1–300 kHz

Pulsbreedte 10–50 ns 8–30 ns

Straalkwaliteit (M²) <1,3 <1,5

Koelmethode Luchtkoeling/waterkoeling Luchtkoeling/waterkoeling

4. Vergelijking van concurrerende producten (EF40 vs. fiber/CO₂ laser)

Kenmerken EF40 (DPSS) Fiberlaser CO₂-laser

Golflengte 1064/532 nm 1060–1080 nm 10,6 μm

Pulsenergie Hoog (mJ-niveau) Lager (µJ–mJ) Hoog (maar met grote thermische impact)

Balkkwaliteit M² <1,3 M² <1,1 M² ~1,2–2

Toepasbare materialen Metaal/niet-metaal Metaalgebaseerd Niet-metaal (kunststof/organisch)

Onderhoudsvereisten Laag (pompen zonder lampen) Zeer laag Gas/lens moet worden aangepast

5. Samenvatting van de voordelen

Hoge pulsenergie: geschikt voor bewerkingen met hoge impact, zoals boren en snijden.

Uitstekende straalkwaliteit: nauwkeurige microbewerking (M²<1,3).

Stabiliteit van industriële kwaliteit: volledig solid-state ontwerp, lange levensduur, onderhoudsvrij.

Verschillende golflengtes beschikbaar: 1064 nm (infrarood) en 532 nm (groen licht) zijn beschikbaar voor aanpassing aan verschillende materialen.

Toepasselijke industrieën:

Elektronische productie (PCB, halfgeleider)

Precisiebewerking (glas, keramiek)

Wetenschappelijke onderzoeksexperimenten (LIBS, LIDAR)

Medische schoonheid (huidbehandeling, tandheelkunde)