EO vastestoflaser EF20P-QSF

EO (EdgeWave) laser EF20P-QSF functie en principe details

De EO EF20P-QSF is een nanoseconde Q-switched laser met een hoog vermogen en een hoge herhalingsfrequentie. De laser maakt gebruik van DPSS-technologie (halfgeleidergepompte vastestoflaser) en is geschikt voor precisiebewerking, lasermarkering, LIBS (laser-induced breakdown spectroscopy) en wetenschappelijke onderzoekstoepassingen.

1. Kernfuncties

(1) Hoog vermogen en hoge pulsenergie

Gemiddeld vermogen: 20 W (@1064 nm).

Enkele pulsenergie: tot 1 mJ (afhankelijk van de herhalingsfrequentie).

Herhalingsfrequentie: 1–200 kHz (instelbaar), om te voldoen aan verschillende verwerkingsvereisten.

(2) Uitstekende straalkwaliteit

M² < 1,3 (dichtbij de diffractielimiet), geschikt voor fijne microbewerking.

Gaussische bundel, klein focuspunt, hoge energiedichtheid.

(3) Flexibele pulsregeling

Instelbare pulsbreedte: 10–50 ns (typische waarde), om het verwerkingseffect van verschillende materialen te optimaliseren.

Externe trigger: ondersteunt TTL/PWM-modulatie, compatibel met automatiseringssystemen.

(4) Betrouwbaarheid van industriële kwaliteit

Volledig solid-state ontwerp (pompen zonder lampen), levensduur >20.000 uur.

Luchtkoeling/waterkoeling optioneel, geschikt voor verschillende werkomgevingen.

2. Werkingsprincipe

EF20P-QSF is gebaseerd op Q-switched DPSS-lasertechnologie en het kernproces is als volgt:

(1) Halfgeleiderpompen (LD-pompen)

Laserdiode (LD) pompt Nd:YVO₄ of Nd:YAG-kristal om zeldzame aardionen (Nd³⁺) te exciteren tot metastabiele energieniveaus.

(2) Q-geschakelde pulsgeneratie

Akoesto-optische Q-switching (AO Q-Switch) of elektro-optische Q-switching (EO Q-Switch) schakelt snel de Q-waarde van de resonantieholte om en geeft krachtige nanosecondepulsen af ​​nadat er energie is verzameld.

(3) Golflengteconversie (optioneel)

Synchrone frequentiegeneratie (SHG) en drievoudige frequentiegeneratie (THG) worden uitgevoerd via niet-lineaire kristallen (zoals LBO, KTP) en de uitvoer is 532 nm (groen licht) of 355 nm (ultraviolet licht).

(4) Straalvorming en output

De uitvoer wordt geoptimaliseerd door een bundelvergroter/focusserende lens om een ​​hoge energiedichtheid en verwerkingsnauwkeurigheid te garanderen.

3. Typische toepassingen

(1) Precisiebewerking

Snijden van brosse materialen (glas, saffier, keramiek).

Microboren (printplaten, brandstofinjectoren, elektronische componenten).

(2) Lasermarkering

Markering van metaal met hoog contrast (roestvrij staal, aluminiumlegering).

Gravure van kunststof/keramiek (geen thermische schade).

(3) Wetenschappelijk onderzoek en testen

LIBS (elementanalyse): plasma met hoge pulsenergie-excitatie.

Laserradar (LIDAR): atmosferische detectie, afstandsbepaling.

(4) Medisch en schoonheid

Huidbehandeling (pigmentatie verwijderen, tatoeage verwijderen).

Behandeling van hard tandweefsel (precisie-ablatie).

4. Technische parameters (typische waarden)

Parameters EF20P-QSF (1064 nm) EF20P-QSF (532 nm)

Golflengte 1064 nm 532 nm (dubbele frequentie)

Gemiddeld vermogen 20 W 10 W

Enkele pulsenergie 1 mJ (@20 kHz) 0,5 mJ (@20 kHz)

Herhalingsfrequentie 1–200 kHz 1–200 kHz

Pulsbreedte 10–50 ns 8–30 ns

Straalkwaliteit (M²) <1,3 <1,5

Koelmethode Luchtkoeling/waterkoeling Luchtkoeling/waterkoeling

5. Vergelijking van concurrerende producten (EF20P-QSF vs. fiber/CO₂ laser)

Kenmerken EF20P-QSF (DPSS) Fiberlaser CO₂-laser

Golflengte 1064/532/355 nm 1060–1080 nm 10,6 μm

Pulsenergie Hoog (mJ-niveau) Lager (µJ–mJ) Hoog (maar met grote thermische impact)

Balkkwaliteit M² <1,3 M² <1,1 M² ~1,2–2

Toepasbare materialen Metaal/niet-metaal Metaalgebaseerd Niet-metaal (kunststof/organisch)

Onderhoudsvereisten Laag (geen lamppompen) Zeer laag Gas/lens moet worden aangepast

6. Samenvatting van de voordelen

Hoge pulsenergie: geschikt voor bewerkingen met hoge impact (boren, LIBS).

Uitstekende straalkwaliteit: nauwkeurige microbewerking (M²<1,3).

Stabiliteit van industriële kwaliteit: volledig solid-state ontwerp, lange levensduur, onderhoudsvrij.

Meerdere golflengtes beschikbaar: 1064 nm/532 nm/355 nm, geschikt voor verschillende materialen.

Toepasselijke sectoren: elektronische productie, wetenschappelijke onderzoeksexperimenten, medische schoonheidsverzorging, lucht- en ruimtevaart, enz.