EO Nanosecond Solid State Laser EF40

EO (EdgeWave) Laser EF40 Funktioun a Roll detailléiert Erklärung

EO EF40 ass en High-Power, High-Widderhuelungsrate Nanosecond Q-switched Solid-State Laser deen Hallefleitpompeltechnologie benotzt (DPSS) an ass gëeegent fir industriell Präzisiounsbearbeitung, Lasermarkéierung, Mikrobueren a wëssenschaftlech Fuerschungsapplikatiounen. Seng Haaptvirdeeler leien an héijer Pulsenergie, exzellente Strahlqualitéit a laang Liewensdesign, wat besonnesch gëeegent ass fir Szenarie mat héijen Ufuerderunge fir d'Bearbechtungsgenauegkeet a Stabilitéit.

1. Kär Funktiounen

(1) Héich Kraaft & héich Pulsenergie

Duerchschnëtt Kraaft: 40 W (@1064 nm), verschidde Modeller kënnen 60 W erreechen.

Single Pulsenergie: bis zu 2 mJ (ofhängeg vun der Widderhuelungsquote).

Widderhuelungsquote: 1–300 kHz (justierbar), fir verschidde Veraarbechtungsfuerderunge gerecht ze ginn.

(2) Exzellent Strahlqualitéit

M² < 1,3 (no bei der Diffraktiounsgrenz), kleng Fokusfleck, konzentréiert Energie.

Gaussesche Strahl, gëeegent fir héich Präzisioun Mikromachining.

(3) Flexibel Pulsatiounsperiod Kontroll

Upassbar Pulsbreet: 10-50 ns (typesch Wäert), optiméiert d'Veraarbechtungseffekt vu verschiddene Materialien.

Extern Ausléiser: ënnerstëtzt TTL / PWM Modulatioun, kompatibel mat automatesche Kontrollsystemer.

(4) Industriegrad Zouverlässegkeet

All-solid-state Design (keng Lampepompel), Liewen> 20.000 Stonnen.

Loftkühlen oder Waasserkühlen fakultativ, adaptéieren un verschidden Aarbechtsëmfeld.

2. Main Applikatioun Beräicher

(1) Präzisioun micromachining

Ausschneiden vu bréchege Materialien: Glas, Saphir, Keramik (kleng thermesch Impakt).

Mikrobueren: PCB Circuitboards, Brennstoffdüsen, elektronesch Komponenten (héich Präzisioun).

Dënn Film Ewechhuele: Solarzellen, ITO konduktiv Schicht Ätzen.

(2) Laser Marquage & Gravur

Metallmarkéierung: Edelstol, Aluminiumlegierung, Titanlegierung (héich Kontrast).

Plastik / Keramik Gravur: keng carbonization, kloer Kanten.

(3) Wëssenschaftlech Fuerschung an Testen

LIBS (Laser-induzéiert Decompte Spektroskopie): Héich-Energie Pulsexcitatiounsplasma fir Elementaranalyse.

Laser Radar (LIDAR): Atmosphäresch Detektioun, Fernsensing Range.

(4) Medizinesch a Schéinheet

Hautbehandlung: Pigmententfernung, Tattooentfernung (532 nm Modell ass besser).

Zänn Uwendungen: Hard Tissue Ablatioun, Zänn Whitening.

3. Technesch Parameteren (typesch Wäerter)

Parameter EF40 (1064 nm) EF40 (532 nm, optional)

Wellelängt 1064 nm 532 nm (duebel Frequenz)

Duerchschnëtt Muecht 40 W 20 W

Pulsenergie 2 mJ (@20 kHz) 1 mJ (@20 kHz)

Widderhuelung Taux 1-300 kHz 1-300 kHz

Pulsbreet 10–50 ns 8–30 ns

Beam Qualitéit (M²) <1,3 <1,5

Ofkillungsmethod Loftkühlen/Waasserkühlen Loftkühlen/Waasserkühlen

4. Verglach vu konkurréiere Produkter (EF40 vs Faser / CO₂ Laser)

Fonctiounen EF40 (DPSS) Fiber Laser CO₂ Laser

Wellelängt 1064/532 nm 1060–1080 nm 10,6 μm

Pulsenergie Héich (mJ Niveau) Niddereg (µJ–mJ) Héich (awer mat groussen thermeschen Impakt)

Beamqualitéit M² <1,3 M² <1,1 M² ~1,2–2

Uwendbar Materialien Metall / Net-Metall Metal-baséiert Net-Metal (Plastik / Organesch)

Ënnerhalt Ufuerderunge Low (lampe-gratis Pompelstatiounen) Ganz niddereg Braucht Gas / Lens ajustéieren

5. Resumé vun Virdeeler

Héich Pulsenergie: gëeegent fir héich Impakt Veraarbechtung wéi Bueren a Schneiden.

Exzellent Strahlqualitéit: Präzisioun Mikromachining (M²<1,3).

Industriegrad Stabilitéit: All-Solid-State Design, laang Liewensdauer, Ënnerhaltfräi.

Multiple Wellelängten verfügbar: 1064 nm (Infrarout) an 532 nm (gréng Luucht) si verfügbar fir u verschidde Materialien unzepassen.

Applicabel Industrien:

Elektronesch Fabrikatioun (PCB, Semiconductor)

Präzisiounsbearbeitung (Glas, Keramik)

Wëssenschaftlech Fuerschungsexperimenter (LIBS, LIDAR)

Medizinesch Schéinheet (Hautbehandlung, Zänndokter