EO cietvielu lāzers EF20P-QSF

EO (EdgeWave) lāzera EF20P-QSF funkcijas un principa detaļas

EO EF20P-QSF ir lielas jaudas, liela atkārtošanās ātruma nanosekundes Q-switched lāzers, kas izmanto pusvadītāju sūknējamā cietvielu lāzera (DPSS) tehnoloģiju un ir piemērots precīzai apstrādei, lāzera marķēšanai, LIBS (lāzera izraisītas sadalījuma spektroskopijai) un zinātniskiem pētījumiem.

1. Pamatfunkcijas

(1) Liela jauda un augsta impulsa enerģija

Vidējā jauda: 20 W (@1064 nm).

Viena impulsa enerģija: līdz 1 mJ (atkarībā no atkārtošanās ātruma).

Atkārtošanās ātrums: 1–200 kHz (regulējams), lai atbilstu dažādām apstrādes prasībām.

(2) Lieliska staru kvalitāte

M² < 1,3 (tuvu difrakcijas robežai), piemērots smalkai mikroapstrādei.

Gausa stars, mazs fokusa punkts, augsts enerģijas blīvums.

(3) Elastīga impulsa kontrole

Regulējams impulsa platums: 10–50 ns (tipiskā vērtība), lai optimizētu dažādu materiālu apstrādes efektu.

Ārējais trigeris: atbalsta TTL/PWM modulāciju, saderīgs ar automatizācijas sistēmām.

(4) Rūpnieciskā līmeņa uzticamība

Pilns cietvielu dizains (sūknēšana bez lampas), kalpošanas laiks >20 000 stundu.

Gaisa dzesēšana / ūdens dzesēšana pēc izvēles, pielāgojas dažādām darba vidēm.

2. Darba princips

EF20P-QSF pamatā ir Q-switched DPSS lāzera tehnoloģija, un pamatprocess ir šāds:

(1) Pusvadītāju sūknēšana (LD sūknēšana)

Lāzerdiodes (LD) sūkņi Nd:YVO4 vai Nd:YAG kristālus, lai ierosinātu retzemju jonus (Nd³⁺) līdz metastabilam enerģijas līmenim.

(2) Q-slēdžu impulsu ģenerēšana

Akustiskā-optiskā Q pārslēgšana (AO Q-Switch) vai elektrooptiskā Q pārslēgšana (EO Q-Switch) ātri pārslēdz rezonanses dobuma Q vērtību un pēc enerģijas uzkrāšanas atbrīvo lieljaudas nanosekundes impulsus.

(3) Viļņa garuma pārveidošana (neobligāti)

Sinhronās frekvences ģenerēšana (SHG) un trīskāršās frekvences ģenerēšana (THG) tiek veikta, izmantojot nelineārus kristālus (piemēram, LBO, KTP), un izvade ir 532 nm (zaļā gaisma) vai 355 nm (ultravioletā gaisma).

(4) Staru veidošana un izvade

Izvadi optimizē staru paplašinātājs/fokusēšanas objektīvs, lai nodrošinātu augstu enerģijas blīvumu un apstrādes precizitāti.

3. Tipiski pielietojumi

(1) Precīzijas apstrāde

Trauslu materiālu (stikls, safīrs, keramika) griešana.

Mikro urbšana (PCB, degvielas iesmidzinātājs, elektroniskās sastāvdaļas).

(2) Lāzera marķēšana

Augsta kontrasta metāla marķējums (nerūsējošais tērauds, alumīnija sakausējums).

Plastmasas/keramikas gravējums (bez termiskiem bojājumiem).

(3) Zinātniskā izpēte un testēšana

LIBS (elementu analīze): augstas impulsa enerģijas ierosmes plazma.

Lāzerradars (LIDAR): atmosfēras noteikšana, attāluma noteikšana.

(4) Medicīna un skaistums

Ādas apstrāde (pigmentācijas noņemšana, tetovējumu noņemšana).

Zobu cieto audu apstrāde (precīza ablācija).

4. Tehniskie parametri (tipiskās vērtības)

Parametri EF20P-QSF (1064 nm) EF20P-QSF (532 nm)

Viļņa garums 1064 nm 532 nm (dubultā frekvence)

Vidējā jauda 20 W 10 W

Viena impulsa enerģija 1 mJ (@20 kHz) 0,5 mJ (@20 kHz)

Atkārtošanās ātrums 1–200 kHz 1–200 kHz

Impulsa platums 10–50 ns 8–30 ns

Sijas kvalitāte (M²) <1,3 <1,5

Dzesēšanas metode Gaisa dzesēšana/ūdens dzesēšana Gaisa dzesēšana/ūdens dzesēšana

5. Konkurējošo produktu salīdzinājums (EF20P-QSF salīdzinājumā ar šķiedru/CO₂ lāzeru)

Ietver EF20P-QSF (DPSS) Fiber lāzera CO₂ lāzeru

Viļņa garums 1064/532/355 nm 1060–1080 nm 10,6 μm

Impulsu enerģija Augsta (mJ līmenis) Zemāka (µJ–mJ) Augsta (bet ar lielu termisko ietekmi)

Sijas kvalitāte M² <1,3 M² <1,1 M² ~1,2–2

Piemērojamie materiāli Metāls/nemetāls Uz metāla bāzes Nemetāls (plastmasa/organiska)

Apkopes prasības Zems (bez lampas sūknēšanas) Ļoti zems Nepieciešams pielāgot gāzi/objektīvu

6. Priekšrocību kopsavilkums

Augsta impulsa enerģija: piemērota liela trieciena apstrādei (urbšana, LIBS).

Lieliska staru kvalitāte: precīza mikroapstrāde (M²<1,3).

Rūpnieciskā līmeņa stabilitāte: pilnīgi cietvielu dizains, ilgs kalpošanas laiks, bez apkopes.

Pieejami vairāki viļņu garumi: 1064 nm/532 nm/355 nm, piemērots dažādiem materiāliem.

Piemērojamās nozares: elektroniskā ražošana, zinātniski pētnieciskie eksperimenti, medicīniskais skaistums, aviācija utt.