EO ಘನ-ಸ್ಥಿತಿಯ ಲೇಸರ್ EF20P-QSF

EO (EdgeWave) ಲೇಸರ್ EF20P-QSF ಕಾರ್ಯ ಮತ್ತು ತತ್ವ ವಿವರಗಳು

EO EF20P-QSF ಎಂಬುದು ಹೆಚ್ಚಿನ ಶಕ್ತಿಯ, ಹೆಚ್ಚಿನ ಪುನರಾವರ್ತನೆಯ ದರದ ನ್ಯಾನೊಸೆಕೆಂಡ್ Q-ಸ್ವಿಚ್ಡ್ ಲೇಸರ್ ಆಗಿದ್ದು, ಇದು ಅರೆವಾಹಕ-ಪಂಪ್ಡ್ ಘನ-ಸ್ಥಿತಿ ಲೇಸರ್ (DPSS) ತಂತ್ರಜ್ಞಾನವನ್ನು ಬಳಸುತ್ತದೆ ಮತ್ತು ನಿಖರ ಯಂತ್ರ, ಲೇಸರ್ ಗುರುತು, LIBS (ಲೇಸರ್-ಪ್ರೇರಿತ ಬ್ರೇಕ್‌ಡೌನ್ ಸ್ಪೆಕ್ಟ್ರೋಸ್ಕೋಪಿ) ಮತ್ತು ವೈಜ್ಞಾನಿಕ ಸಂಶೋಧನಾ ಅನ್ವಯಿಕೆಗಳಿಗೆ ಸೂಕ್ತವಾಗಿದೆ.

1. ಕೋರ್ ಕಾರ್ಯಗಳು

(1) ಹೆಚ್ಚಿನ ಶಕ್ತಿ ಮತ್ತು ಹೆಚ್ಚಿನ ನಾಡಿ ಶಕ್ತಿ

ಸರಾಸರಿ ಶಕ್ತಿ: 20 W (@1064 nm).

ಏಕ ನಾಡಿ ಶಕ್ತಿ: 1 mJ ವರೆಗೆ (ಪುನರಾವರ್ತನೆಯ ದರವನ್ನು ಅವಲಂಬಿಸಿ).

ಪುನರಾವರ್ತನೆ ದರ: 1–200 kHz (ಹೊಂದಾಣಿಕೆ), ವಿಭಿನ್ನ ಸಂಸ್ಕರಣಾ ಅವಶ್ಯಕತೆಗಳನ್ನು ಪೂರೈಸಲು.

(2) ಅತ್ಯುತ್ತಮ ಬೀಮ್ ಗುಣಮಟ್ಟ

M² < 1.3 (ವಿವರ್ತನ ಮಿತಿಗೆ ಹತ್ತಿರ), ಸೂಕ್ಷ್ಮ ಸೂಕ್ಷ್ಮ ಯಂತ್ರೀಕರಣಕ್ಕೆ ಸೂಕ್ತವಾಗಿದೆ.

ಗೌಸಿಯನ್ ಕಿರಣ, ಸಣ್ಣ ಕೇಂದ್ರೀಕೃತ ಸ್ಥಳ, ಹೆಚ್ಚಿನ ಶಕ್ತಿ ಸಾಂದ್ರತೆ.

(3) ಹೊಂದಿಕೊಳ್ಳುವ ನಾಡಿ ನಿಯಂತ್ರಣ

ಹೊಂದಾಣಿಕೆ ಮಾಡಬಹುದಾದ ಪಲ್ಸ್ ಅಗಲ: 10–50 ns (ವಿಶಿಷ್ಟ ಮೌಲ್ಯ), ವಿಭಿನ್ನ ವಸ್ತುಗಳ ಸಂಸ್ಕರಣಾ ಪರಿಣಾಮವನ್ನು ಅತ್ಯುತ್ತಮವಾಗಿಸಲು.

ಬಾಹ್ಯ ಪ್ರಚೋದಕ: TTL/PWM ಮಾಡ್ಯುಲೇಷನ್ ಅನ್ನು ಬೆಂಬಲಿಸುತ್ತದೆ, ಯಾಂತ್ರೀಕೃತಗೊಂಡ ವ್ಯವಸ್ಥೆಗಳೊಂದಿಗೆ ಹೊಂದಿಕೊಳ್ಳುತ್ತದೆ.

(4) ಕೈಗಾರಿಕಾ ದರ್ಜೆಯ ವಿಶ್ವಾಸಾರ್ಹತೆ

ಸಂಪೂರ್ಣ ಘನ-ಸ್ಥಿತಿಯ ವಿನ್ಯಾಸ (ದೀಪ-ಮುಕ್ತ ಪಂಪಿಂಗ್), ಜೀವಿತಾವಧಿ >20,000 ಗಂಟೆಗಳು.

ಏರ್ ಕೂಲಿಂಗ್/ವಾಟರ್ ಕೂಲಿಂಗ್ ಐಚ್ಛಿಕ, ವಿಭಿನ್ನ ಕೆಲಸದ ಪರಿಸರಕ್ಕೆ ಹೊಂದಿಕೊಳ್ಳುತ್ತದೆ.

2. ಕೆಲಸದ ತತ್ವ

EF20P-QSF Q-ಸ್ವಿಚ್ಡ್ DPSS ಲೇಸರ್ ತಂತ್ರಜ್ಞಾನವನ್ನು ಆಧರಿಸಿದೆ ಮತ್ತು ಮೂಲ ಪ್ರಕ್ರಿಯೆಯು ಈ ಕೆಳಗಿನಂತಿರುತ್ತದೆ:

(1) ಸೆಮಿಕಂಡಕ್ಟರ್ ಪಂಪಿಂಗ್ (LD ಪಂಪಿಂಗ್)

ಲೇಸರ್ ಡಯೋಡ್ (LD) ಅಪರೂಪದ ಭೂಮಿಯ ಅಯಾನುಗಳನ್ನು (Nd³⁺) ಮೆಟಾಸ್ಟೇಬಲ್ ಶಕ್ತಿ ಮಟ್ಟಗಳಿಗೆ ಪ್ರಚೋದಿಸಲು Nd:YVO₄ ಅಥವಾ Nd:YAG ಸ್ಫಟಿಕವನ್ನು ಪಂಪ್ ಮಾಡುತ್ತದೆ.

(2) Q-ಸ್ವಿಚ್ಡ್ ಪಲ್ಸ್ ಉತ್ಪಾದನೆ

ಅಕೌಸ್ಟೋ-ಆಪ್ಟಿಕ್ ಕ್ಯೂ-ಸ್ವಿಚಿಂಗ್ (AO Q-ಸ್ವಿಚಿಂಗ್) ಅಥವಾ ಎಲೆಕ್ಟ್ರೋ-ಆಪ್ಟಿಕ್ ಕ್ಯೂ-ಸ್ವಿಚಿಂಗ್ (EO Q-ಸ್ವಿಚ್) ತ್ವರಿತವಾಗಿ ಪ್ರತಿಧ್ವನಿಸುವ ಕುಹರದ Q ಮೌಲ್ಯವನ್ನು ಬದಲಾಯಿಸುತ್ತದೆ ಮತ್ತು ಶಕ್ತಿಯನ್ನು ಸಂಗ್ರಹಿಸಿದ ನಂತರ ಹೆಚ್ಚಿನ ಶಕ್ತಿಯ ನ್ಯಾನೊಸೆಕೆಂಡ್ ಪಲ್ಸ್‌ಗಳನ್ನು ಬಿಡುಗಡೆ ಮಾಡುತ್ತದೆ.

(3) ತರಂಗಾಂತರ ಪರಿವರ್ತನೆ (ಐಚ್ಛಿಕ)

ಸಿಂಕ್ರೊನಸ್ ಆವರ್ತನ ಉತ್ಪಾದನೆ (SHG) ಮತ್ತು ಟ್ರಿಪಲ್ ಆವರ್ತನ ಉತ್ಪಾದನೆ (THG) ಗಳನ್ನು ರೇಖಾತ್ಮಕವಲ್ಲದ ಸ್ಫಟಿಕಗಳ ಮೂಲಕ (LBO, KTP ನಂತಹ) ನಡೆಸಲಾಗುತ್ತದೆ ಮತ್ತು ಔಟ್‌ಪುಟ್ 532 nm (ಹಸಿರು ಬೆಳಕು) ಅಥವಾ 355 nm (ನೇರಳಾತೀತ ಬೆಳಕು) ಆಗಿದೆ.

(4) ಕಿರಣದ ಆಕಾರ ಮತ್ತು ಔಟ್‌ಪುಟ್

ಹೆಚ್ಚಿನ ಶಕ್ತಿಯ ಸಾಂದ್ರತೆ ಮತ್ತು ಸಂಸ್ಕರಣಾ ನಿಖರತೆಯನ್ನು ಖಚಿತಪಡಿಸಿಕೊಳ್ಳಲು ಬೀಮ್ ಎಕ್ಸ್‌ಪಾಂಡರ್/ಫೋಕಸಿಂಗ್ ಲೆನ್ಸ್ ಮೂಲಕ ಔಟ್‌ಪುಟ್ ಅನ್ನು ಅತ್ಯುತ್ತಮವಾಗಿಸಲಾಗಿದೆ.

3. ವಿಶಿಷ್ಟ ಅನ್ವಯಿಕೆಗಳು

(1) ನಿಖರ ಯಂತ್ರ

ದುರ್ಬಲವಾದ ವಸ್ತುಗಳನ್ನು ಕತ್ತರಿಸುವುದು (ಗಾಜು, ನೀಲಮಣಿ, ಪಿಂಗಾಣಿ).

ಮೈಕ್ರೋ ಡ್ರಿಲ್ಲಿಂಗ್ (ಪಿಸಿಬಿ, ಇಂಧನ ಇಂಜೆಕ್ಟರ್, ಎಲೆಕ್ಟ್ರಾನಿಕ್ ಘಟಕಗಳು).

(2) ಲೇಸರ್ ಗುರುತು

ಹೆಚ್ಚಿನ ಕಾಂಟ್ರಾಸ್ಟ್ ಲೋಹದ ಗುರುತು (ಸ್ಟೇನ್‌ಲೆಸ್ ಸ್ಟೀಲ್, ಅಲ್ಯೂಮಿನಿಯಂ ಮಿಶ್ರಲೋಹ).

ಪ್ಲಾಸ್ಟಿಕ್/ಸೆರಾಮಿಕ್ ಕೆತ್ತನೆ (ಉಷ್ಣ ಹಾನಿ ಇಲ್ಲ).

(3) ವೈಜ್ಞಾನಿಕ ಸಂಶೋಧನೆ ಮತ್ತು ಪರೀಕ್ಷೆ

LIBS (ಧಾತುರೂಪದ ವಿಶ್ಲೇಷಣೆ): ಹೆಚ್ಚಿನ ನಾಡಿ ಶಕ್ತಿಯ ಪ್ರಚೋದನೆ ಪ್ಲಾಸ್ಮಾ.

ಲೇಸರ್ ರಾಡಾರ್ (LIDAR): ವಾತಾವರಣದ ಪತ್ತೆ, ಶ್ರೇಣಿ.

(4) ವೈದ್ಯಕೀಯ ಮತ್ತು ಸೌಂದರ್ಯ

ಚರ್ಮದ ಚಿಕಿತ್ಸೆ (ಪಿಗ್ಮೆಂಟೇಶನ್ ತೆಗೆಯುವಿಕೆ, ಹಚ್ಚೆ ತೆಗೆಯುವಿಕೆ).

ದಂತ ಗಟ್ಟಿ ಅಂಗಾಂಶ ಚಿಕಿತ್ಸೆ (ನಿಖರವಾದ ಅಬ್ಲೇಶನ್).

4. ತಾಂತ್ರಿಕ ನಿಯತಾಂಕಗಳು (ವಿಶಿಷ್ಟ ಮೌಲ್ಯಗಳು)

ನಿಯತಾಂಕಗಳು EF20P-QSF (1064 nm) EF20P-QSF (532 nm)

ತರಂಗಾಂತರ 1064 nm 532 nm (ಡಬಲ್ ಆವರ್ತನ)

ಸರಾಸರಿ ಶಕ್ತಿ 20 W 10 W

ಏಕ ಪಲ್ಸ್ ಶಕ್ತಿ 1 mJ (@20 kHz) 0.5 mJ (@20 kHz)

ಪುನರಾವರ್ತನೆ ದರ 1–200 kHz 1–200 kHz

ನಾಡಿ ಅಗಲ 10–50 ns 8–30 ns

ಬೀಮ್ ಗುಣಮಟ್ಟ (M²) <1.3 <1.5

ತಂಪಾಗಿಸುವ ವಿಧಾನ ಗಾಳಿಯಿಂದ ತಂಪಾಗಿಸುವುದು/ನೀರಿನಿಂದ ತಂಪಾಗಿಸುವುದು ಗಾಳಿಯಿಂದ ತಂಪಾಗಿಸುವುದು/ನೀರಿನಿಂದ ತಂಪಾಗಿಸುವುದು

5. ಸ್ಪರ್ಧಾತ್ಮಕ ಉತ್ಪನ್ನಗಳ ಹೋಲಿಕೆ (EF20P-QSF vs. ಫೈಬರ್/CO₂ ಲೇಸರ್)

EF20P-QSF (DPSS) ಫೈಬರ್ ಲೇಸರ್ CO₂ ಲೇಸರ್ ವೈಶಿಷ್ಟ್ಯಗಳು

ತರಂಗಾಂತರ 1064/532/355 nm 1060–1080 nm 10.6 μm

ಪಲ್ಸ್ ಶಕ್ತಿ ಹೆಚ್ಚು (mJ ಮಟ್ಟ) ಕಡಿಮೆ (µJ–mJ) ಹೆಚ್ಚು (ಆದರೆ ದೊಡ್ಡ ಉಷ್ಣ ಪರಿಣಾಮದೊಂದಿಗೆ)

ಬೀಮ್ ಗುಣಮಟ್ಟ M² <1.3 M² <1.1 M² ~1.2–2

ಅನ್ವಯವಾಗುವ ವಸ್ತುಗಳು ಲೋಹ/ಲೋಹೇತರ ಲೋಹ ಆಧಾರಿತ ಲೋಹೇತರ (ಪ್ಲಾಸ್ಟಿಕ್/ಸಾವಯವ)

ನಿರ್ವಹಣಾ ಅವಶ್ಯಕತೆಗಳು ಕಡಿಮೆ (ಲ್ಯಾಂಪ್ ಪಂಪಿಂಗ್ ಇಲ್ಲ) ತುಂಬಾ ಕಡಿಮೆ ಗ್ಯಾಸ್/ಲೆನ್ಸ್ ಹೊಂದಿಸುವ ಅಗತ್ಯವಿದೆ

6. ಅನುಕೂಲಗಳ ಸಾರಾಂಶ

ಹೆಚ್ಚಿನ ನಾಡಿ ಶಕ್ತಿ: ಹೆಚ್ಚಿನ ಪ್ರಭಾವದ ಸಂಸ್ಕರಣೆಗೆ (ಡ್ರಿಲ್ಲಿಂಗ್, LIBS) ಸೂಕ್ತವಾಗಿದೆ.

ಅತ್ಯುತ್ತಮ ಕಿರಣದ ಗುಣಮಟ್ಟ: ನಿಖರ ಮೈಕ್ರೋಮ್ಯಾಚಿನಿಂಗ್ (M²<1.3).

ಕೈಗಾರಿಕಾ ದರ್ಜೆಯ ಸ್ಥಿರತೆ: ಸಂಪೂರ್ಣ ಘನ-ಸ್ಥಿತಿಯ ವಿನ್ಯಾಸ, ದೀರ್ಘಾಯುಷ್ಯ, ನಿರ್ವಹಣೆ-ಮುಕ್ತ.

ಬಹು ತರಂಗಾಂತರಗಳು ಲಭ್ಯವಿದೆ: 1064 nm/532 nm/355 nm, ವಿಭಿನ್ನ ವಸ್ತುಗಳಿಗೆ ಸೂಕ್ತವಾಗಿದೆ.

ಅನ್ವಯವಾಗುವ ಕೈಗಾರಿಕೆಗಳು: ಎಲೆಕ್ಟ್ರಾನಿಕ್ ಉತ್ಪಾದನೆ, ವೈಜ್ಞಾನಿಕ ಸಂಶೋಧನಾ ಪ್ರಯೋಗಗಳು, ವೈದ್ಯಕೀಯ ಸೌಂದರ್ಯ, ಬಾಹ್ಯಾಕಾಶ, ಇತ್ಯಾದಿ.