EO (EdgeWave) lézer EF20P-QSF funkció és elv részletei
Az EO EF20P-QSF egy nagy teljesítményű, nagy ismétlési sebességű nanoszekundumos Q-kapcsolt lézer, amely félvezető pumpás szilárdtestlézer (DPSS) technológiát használ, és alkalmas precíziós megmunkálásra, lézeres jelölésre, LIBS (lézerindukált lebontási spektroszkópia) és tudományos kutatási alkalmazásokra.
1. Alapfunkciók
(1) Nagy teljesítmény és nagy impulzusenergia
Átlagos teljesítmény: 20 W (@1064 nm).
Egyimpulzus energia: 1 mJ-ig (az ismétlési gyakoriságtól függően).
Ismétlési frekvencia: 1–200 kHz (állítható), a különböző feldolgozási követelményeknek megfelelően.
(2) Kiváló sugárminőség
M² < 1,3 (közel a diffrakciós határhoz), finom mikromegmunkálásra alkalmas.
Gauss-nyaláb, kis fókuszpont, nagy energiasűrűség.
(3) Rugalmas impulzusvezérlés
Állítható impulzusszélesség: 10-50 ns (tipikus érték), a különböző anyagok feldolgozási hatásának optimalizálása érdekében.
Külső trigger: támogatja a TTL/PWM modulációt, kompatibilis az automatizálási rendszerekkel.
(4) Ipari szintű megbízhatóság
Teljesen szilárdtest kivitel (lámpa nélküli szivattyúzás), élettartama >20 000 óra.
Léghűtés/vízhűtés opcionális, alkalmazkodni a különböző munkakörnyezetekhez.
2. Működési elv
Az EF20P-QSF Q-kapcsolt DPSS lézertechnológián alapul, és az alapvető folyamat a következő:
(1) Félvezető szivattyúzás (LD Pumping)
Lézerdióda (LD) Nd:YVO4 vagy Nd:YAG kristályt pumpál a ritkaföldfém-ionok (Nd3⁺) metastabil energiaszintre való gerjesztésére.
(2) Q-kapcsolt impulzusgenerálás
Az akusztikus-optikai Q-kapcsolás (AO Q-Switch) vagy az elektro-optikai Q-kapcsolás (EO Q-Switch) gyorsan átkapcsolja a rezonanciaüreg Q-értékét, és az energia felhalmozódása után nagy teljesítményű nanoszekundumos impulzusokat bocsát ki.
(3) Hullámhossz konverzió (opcionális)
A szinkron frekvenciagenerálás (SHG) és a hármas frekvenciagenerálás (THG) nemlineáris kristályokon (például LBO, KTP) keresztül valósul meg, és a kimenet 532 nm (zöld fény) vagy 355 nm (ultraibolya fény).
(4) Nyalábformálás és kimenet
A kimenetet egy sugártágító/fókuszáló lencse optimalizálja a nagy energiasűrűség és a feldolgozási pontosság biztosítása érdekében.
3. Tipikus alkalmazások
(1) Precíziós megmunkálás
Törékeny anyagok (üveg, zafír, kerámia) vágása.
Mikrofúrás (NYÁK, üzemanyag-befecskendező, elektronikai alkatrészek).
(2) Lézeres jelölés
Nagy kontrasztú fémjelölés (rozsdamentes acél, alumíniumötvözet).
Műanyag/kerámia gravírozás (nincs hőkárosodás).
(3) Tudományos kutatás és tesztelés
LIBS (elemanalízis): nagy impulzusenergiájú gerjesztő plazma.
Lézerradar (LIDAR): légköri érzékelés, távolságmérés.
(4) Orvosi és szépségápolási
Bőrkezelés (pigmentáció eltávolítás, tetoválás eltávolítás).
Fogászati keményszövet-kezelés (precíziós abláció).
4. Műszaki paraméterek (tipikus értékek)
Paraméterek EF20P-QSF (1064 nm) EF20P-QSF (532 nm)
Hullámhossz 1064 nm 532 nm (kettős frekvencia)
Átlagos teljesítmény 20 W 10 W
Egyimpulzus energia 1 mJ (@20 kHz) 0,5 mJ (@20 kHz)
Ismétlési frekvencia 1–200 kHz 1–200 kHz
Impulzusszélesség 10-50 ns 8-30 ns
A gerenda minősége (M²) <1,3 <1,5
Hűtési mód Léghűtés/vízhűtés Léghűtés/vízhűtés
5. A versengő termékek összehasonlítása (EF20P-QSF vs. fiber/CO₂ lézer)
EF20P-QSF (DPSS) Fiber lézer CO₂ lézerrel
Hullámhossz 1064/532/355 nm 1060–1080 nm 10,6 μm
Impulzusenergia Magas (mJ szint) Alacsonyabb (µJ–mJ) Magas (de nagy hőhatással)
Gerenda minősége M² <1,3 M² <1,1 M² ~1,2–2
Alkalmazható anyagok Fém/nem fém Fém alapú nemfém (műanyag/szerves)
Karbantartási követelmények Alacsony (nincs lámpa pumpálása) Nagyon alacsony A gáz/lencse beállítása szükséges
6. Előnyök összefoglalása
Nagy impulzusenergia: nagy ütési megmunkálásra alkalmas (fúrás, LIBS).
Kiváló sugárminőség: precíziós mikromegmunkálás (M²<1,3).
Ipari minőségű stabilitás: teljesen szilárdtest-kialakítás, hosszú élettartam, karbantartásmentes.
Többféle hullámhossz elérhető: 1064 nm/532 nm/355 nm, különböző anyagokhoz alkalmas.
Alkalmazható iparágak: elektronikai gyártás, tudományos kutatási kísérletek, orvosi szépségápolás, repülőgépipar stb.