EO nanosekunnin solid State Laser EF40

EO (EdgeWave) laser EF40 toiminto ja rooli yksityiskohtainen selitys

EO EF40 on suuritehoinen, suuren toistonopeuden nanosekunnin Q-kytkentäinen solid-state laser, joka käyttää puolijohdepumpputekniikkaa (DPSS) ja soveltuu teolliseen tarkkuuskoneistukseen, lasermerkintään, mikroporaukseen ja tieteelliseen tutkimukseen. Sen ydinetuja ovat korkea pulssienergia, erinomainen säteen laatu ja pitkä käyttöikä, mikä sopii erityisen hyvin skenaarioihin, joissa on korkeat vaatimukset koneistustarkkuudelle ja vakaudelle.

1. Ydintoiminnot

(1) Suuri teho ja korkea pulssienergia

Keskimääräinen teho: 40 W (@1064 nm), jotkut mallit voivat saavuttaa 60 W.

Yhden pulssin energia: jopa 2 mJ (riippuen toistonopeudesta).

Toistotaajuus: 1–300 kHz (säädettävä), erilaisten käsittelyvaatimusten täyttämiseksi.

(2) Erinomainen säteen laatu

M² < 1,3 (lähellä diffraktiorajaa), pieni tarkennuspiste, keskittynyt energia.

Gauss-palkki, sopii erittäin tarkkaan mikrotyöstöön.

(3) Joustava pulssisäätö

Säädettävä pulssin leveys: 10–50 ns (tyypillinen arvo), optimoiden eri materiaalien käsittelytehoa.

Ulkoinen liipaisin: tukee TTL/PWM-modulaatiota, yhteensopiva automaattisten ohjausjärjestelmien kanssa.

(4) Teollisuustason luotettavuus

Täysin solid-state-rakenne (ei lamppupumppua), käyttöikä > 20 000 tuntia.

Ilma- tai vesijäähdytys valinnainen, mukautuva erilaisiin työympäristöihin.

2. Pääsovellusalueet

(1) Tarkkuusmikrotyöstö

Hauraiden materiaalien leikkaus: lasi, safiiri, keramiikka (pieni lämpövaikutus).

Mikroporaus: piirilevyt, polttoainesuuttimet, elektroniset komponentit (suuri tarkkuus).

Ohutkalvon poisto: aurinkokennot, ITO johtavan kerroksen etsaus.

(2) Lasermerkintä ja kaiverrus

Metallimerkintä: ruostumaton teräs, alumiiniseos, titaaniseos (suuri kontrasti).

Muovi/keraaminen kaiverrus: ei hiiltymistä, selkeät reunat.

(3) Tieteellinen tutkimus ja testaus

LIBS (laser induced breakdown spectroscopy): korkeaenerginen pulssiviritysplasma alkuaineanalyysiin.

Laser Radar (LIDAR): ilmakehän tunnistus, kaukokartoitusetäisyys.

(4) Lääketiede ja kauneus

Ihonhoito: pigmentin poisto, tatuoinnin poisto (532 nm malli on parempi).

Hammassovellukset: kovien kudosten ablaatio, hampaiden valkaisu.

3. Tekniset parametrit (tyypilliset arvot)

Parametrit EF40 (1064 nm) EF40 (532 nm, valinnainen)

Aallonpituus 1064 nm 532 nm (kaksinkertainen taajuus)

Keskiteho 40 W 20 W

Pulssin energia 2 mJ (@20 kHz) 1 mJ (@20 kHz)

Toistotaajuus 1–300 kHz 1–300 kHz

Pulssin leveys 10–50 ns 8–30 ns

Palkin laatu (M²) <1,3 <1,5

Jäähdytystapa Ilmajäähdytys/vesijäähdytys Ilmajäähdytys/vesijäähdytys

4. Kilpailevien tuotteiden vertailu (EF40 vs. kuitu/CO₂-laser)

Sisältää EF40 (DPSS) -kuitulaser CO₂-laserin

Aallonpituus 1064/532 nm 1060–1080 nm 10,6 μm

Pulssienergia Korkea (mJ-taso) Alempi (µJ–mJ) Korkea (mutta suurella lämpövaikutuksella)

Palkin laatu M² <1,3 M² <1,1 M² ~1,2–2

Soveltuvat materiaalit Metalli/ei-metalli Metallipohjainen Epämetalli (muovi/orgaaninen)

Huoltovaatimukset Matala (lampputon pumppaus) Erittäin alhainen Kaasun/linssin säätö on tarpeen

5. Yhteenveto eduista

Korkea pulssienergia: sopii iskunkestävään prosessointiin, kuten poraukseen ja leikkaamiseen.

Erinomainen säteen laatu: tarkkuus mikrotyöstö (M²<1,3).

Teollisuustason vakaus: täysin solid-state-rakenne, pitkä käyttöikä, huoltovapaa.

Saatavilla useita aallonpituuksia: 1064 nm (infrapuna) ja 532 nm (vihreä valo) on saatavana sopeutumaan eri materiaaleihin.

Sovellettavat toimialat:

Elektroniikan valmistus (piirilevy, puolijohde)

Tarkkuustyöstö (lasi, keramiikka)

Tieteelliset tutkimuskokeet (LIBS, LIDAR)

Lääketieteellinen kauneus (ihonhoito, hammashoito