EO solid state laser EF20P-QSF

EO (EdgeWave) laser EF20P-QSF funktion og principielle detaljer

EO EF20P-QSF er en højeffekts nanosekund Q-switched laser med høj gentagelseshastighed, der bruger halvlederpumpet solid-state laser (DPSS) teknologi og er velegnet til præcisionsbearbejdning, lasermærkning, LIBS (laser-induceret breakdown spectroscopy) og videnskabelige forskningsapplikationer.

1. Kernefunktioner

(1) Høj effekt og høj pulsenergi

Gennemsnitlig effekt: 20 W (@1064 nm).

Enkeltpulsenergi: op til 1 mJ (afhængig af gentagelseshastigheden).

Gentagelseshastighed: 1–200 kHz (justerbar), for at opfylde forskellige behandlingskrav.

(2) Fremragende strålekvalitet

M² < 1,3 (tæt på diffraktionsgrænsen), velegnet til fin mikrobearbejdning.

Gaussisk stråle, lille fokuspunkt, høj energitæthed.

(3) Fleksibel pulsstyring

Justerbar pulsbredde: 10–50 ns (typisk værdi), for at optimere bearbejdningseffekten af ​​forskellige materialer.

Ekstern trigger: understøtter TTL/PWM-modulation, kompatibel med automationssystemer.

(4) Industriel pålidelighed

All-solid-state design (lampefri pumpning), levetid >20.000 timer.

Luftkøling/vandkøling valgfri, tilpas til forskellige arbejdsmiljøer.

2. Arbejdsprincip

EF20P-QSF er baseret på Q-switched DPSS laserteknologi, og kerneprocessen er som følger:

(1) Halvlederpumpning (LD-pumpning)

Laserdiode (LD) pumper Nd:YVO₄ eller Nd:YAG krystal for at excitere sjældne jordarters ioner (Nd³⁺) til metastabile energiniveauer.

(2) Q-switched pulsgenerering

Akusto-optisk Q-switch (AO Q-Switch) eller elektro-optisk Q-switch (EO Q-Switch) skifter hurtigt resonanshulrummets Q-værdi og frigiver højeffekts nanosekundpulser efter akkumulering af energi.

(3) Bølgelængdekonvertering (valgfrit)

Synkron frekvensgenerering (SHG) og tripelfrekvensgenerering (THG) udføres gennem ikke-lineære krystaller (såsom LBO, KTP), og outputtet er 532 nm (grønt lys) eller 355 nm (ultraviolet lys).

(4) Stråleformning og output

Outputtet er optimeret af en stråleudvidelse/fokuseringslinse for at sikre høj energitæthed og behandlingsnøjagtighed.

3. Typiske anvendelser

(1) Præcisionsbearbejdning

Skæring af sprøde materialer (glas, safir, keramik).

Mikroboring (PCB, brændstofinjektor, elektroniske komponenter).

(2) Lasermærkning

Højkontrast metalmærkning (rustfrit stål, aluminiumslegering).

Plast/keramisk gravering (ingen termisk skade).

(3) Videnskabelig forskning og afprøvning

LIBS (grundstofanalyse): excitationsplasma med høj pulsenergi.

Laserradar (LIDAR): atmosfærisk detektion, afstand.

(4) Medicin og skønhed

Hudbehandling (fjernelse af pigmentering, fjernelse af tatoveringer).

Dental hårdvævsbehandling (præcisionsablation).

4. Tekniske parametre (typiske værdier)

Parametre EF20P-QSF (1064 nm) EF20P-QSF (532 nm)

Bølgelængde 1064 nm 532 nm (dobbelt frekvens)

Gennemsnitlig effekt 20 W 10 W

Enkeltpulsenergi 1 mJ (@20 kHz) 0,5 mJ (@20 kHz)

Gentagelseshastighed 1–200 kHz 1–200 kHz

Pulsbredde 10–50 ns 8–30 ns

Strålekvalitet (M²) <1,3 <1,5

Kølemetode Luftkøling/vandkøling Luftkøling/vandkøling

5. Sammenligning af konkurrerende produkter (EF20P-QSF vs. fiber/CO₂-laser)

Funktioner EF20P-QSF (DPSS) Fiberlaser CO₂-laser

Bølgelængde 1064/532/355 nm 1060–1080 nm 10,6 μm

Pulsenergi Høj (mJ niveau) Lavere (µJ–mJ) Høj (men med stor termisk påvirkning)

Bjælkekvalitet M² <1,3 M² <1,1 M² ~1,2–2

Anvendelige materialer Metal/ikke-metal Metalbaseret Ikke-metal (plast/organisk)

Vedligeholdelseskrav Lav (ingen lampepumpning) Meget lav Behov for justering af gas/linse

6. Oversigt over fordele

Høj pulsenergi: velegnet til højtryksbehandling (boring, LIBS).

Fremragende strålekvalitet: præcisionsmikrobearbejdning (M²<1,3).

Stabilitet i industriel kvalitet: helt solid state-design, lang levetid, vedligeholdelsesfri.

Flere tilgængelige bølgelængder: 1064 nm/532 nm/355 nm, velegnet til forskellige materialer.

Gældende industrier: elektronisk fremstilling, videnskabelige forskningseksperimenter, medicinsk skønhed, rumfart osv.