EO (EdgeWave) лазер EF20P-QSF функция и принципни подробности
EO EF20P-QSF е наносекунден Q-switched лазер с висока мощност и висока честота на повторение, който използва полупроводниково изпомпвана технология за твърдотелен лазер (DPSS) и е подходящ за прецизна обработка, лазерно маркиране, LIBS (лазерно индуцирана спектроскопия на пробив) и приложения за научни изследвания.
1. Основни функции
(1) Висока мощност и висока импулсна енергия
Средна мощност: 20 W (@1064 nm).
Енергия на единичен импулс: до 1 mJ (в зависимост от честотата на повторение).
Честота на повторение: 1–200 kHz (регулируема), за да отговори на различните изисквания за обработка.
(2) Отлично качество на лъча
M² < 1,3 (близо до границата на дифракция), подходящ за фина микрообработка.
Гаусов лъч, малко фокусно петно, висока енергийна плътност.
(3) Гъвкав контрол на импулса
Регулируема ширина на импулса: 10–50 ns (типична стойност), за оптимизиране на ефекта от обработката на различни материали.
Външен тригер: поддържа TTL/PWM модулация, съвместим със системи за автоматизация.
(4) Индустриална надеждност
Изцяло твърдотелен дизайн (изпомпване без лампа), живот >20 000 часа.
Въздушно охлаждане/водно охлаждане по избор, адаптиране към различни работни среди.
2. Принцип на работа
EF20P-QSF е базиран на Q-switched DPSS лазерна технология и основният процес е както следва:
(1) Полупроводниково изпомпване (LD изпомпване)
Лазерният диод (LD) изпомпва Nd:YVO₄ или Nd:YAG кристал, за да възбуди редкоземни йони (Nd³⁺) до метастабилни енергийни нива.
(2) Генериране на импулс с Q-превключване
Акустооптичното Q-превключване (AO Q-Switch) или електрооптичното Q-превключване (EO Q-Switch) бързо превключва стойността на Q на резонансната кухина и освобождава мощни наносекундни импулси след натрупване на енергия.
(3) Преобразуване на дължина на вълната (по избор)
Генерирането на синхронна честота (SHG) и генерирането на тройна честота (THG) се извършва чрез нелинейни кристали (като LBO, KTP), а изходът е 532 nm (зелена светлина) или 355 nm (ултравиолетова светлина).
(4) Оформяне и изход на лъча
Резултатът е оптимизиран от разширител на лъча/фокусираща леща, за да се осигури висока енергийна плътност и точност на обработка.
3. Типични приложения
(1) Прецизна обработка
Рязане на крехки материали (стъкло, сапфир, керамика).
Микро пробиване (PCB, горивен инжектор, електронни компоненти).
(2) Лазерно маркиране
Метална маркировка с висок контраст (неръждаема стомана, алуминиева сплав).
Гравиране на пластмаса/керамика (без термично увреждане).
(3) Научни изследвания и изпитвания
LIBS (елементарен анализ): плазма с високо импулсно възбуждане.
Лазерен радар (LIDAR): атмосферно откриване, обхват.
(4) Медицина и красота
Лечение на кожата (отстраняване на пигментации, премахване на татуировки).
Лечение на твърди зъбни тъкани (прецизна аблация).
4. Технически параметри (типични стойности)
Параметри EF20P-QSF (1064 nm) EF20P-QSF (532 nm)
Дължина на вълната 1064 nm 532 nm (двойна честота)
Средна мощност 20 W 10 W
Енергия на единичен импулс 1 mJ (@20 kHz) 0,5 mJ (@20 kHz)
Честота на повторение 1–200 kHz 1–200 kHz
Ширина на импулса 10–50 ns 8–30 ns
Качество на лъча (M²) <1,3 <1,5
Метод на охлаждане Въздушно охлаждане/водно охлаждане Въздушно охлаждане/водно охлаждане
5. Сравнение на конкурентни продукти (EF20P-QSF срещу оптичен/CO₂ лазер)
Характеристики EF20P-QSF (DPSS) Влакнен лазер CO₂ лазер
Дължина на вълната 1064/532/355 nm 1060–1080 nm 10,6 μm
Импулсна енергия Висока (mJ ниво) По-ниска (µJ–mJ) Висока (но със силно топлинно въздействие)
Качество на лъча M² <1,3 M² <1,1 M² ~1,2–2
Приложими материали Метални/неметални На метална основа Неметални (пластмасови/органични)
Изисквания за поддръжка Ниски (без изпомпване на лампата) Много ниски Необходимост от регулиране на газ/лещи
6. Обобщение на предимствата
Висока импулсна енергия: подходяща за обработка с голям удар (пробиване, LIBS).
Отлично качество на лъча: прецизна микрообработка (M²<1,3).
Индустриална стабилност: изцяло твърдотелен дизайн, дълъг живот, без поддръжка.
Налични са няколко дължини на вълната: 1064 nm/532 nm/355 nm, подходящи за различни материали.
Приложими индустрии: електронно производство, научноизследователски експерименти, медицинска красота, космонавтика и др.