Нанасекундны цвёрдацельны лазер EO EF40

Падрабязнае тлумачэнне функцыі і ролі лазера EO (EdgeWave) EF40

EO EF40 - гэта магутны нанасекундны цвёрдацельны лазер з высокай частатой паўтарэння з модуляцыяй Q, які выкарыстоўвае тэхналогію паўправадніковай накачкі (DPSS) і падыходзіць для прамысловай дакладнай апрацоўкі, лазернай маркіроўкі, мікрасвідравання і навуковых даследаванняў. Яго асноўныя перавагі заключаюцца ў высокай энергіі імпульсу, выдатнай якасці прамяня і працяглым тэрміне службы, што асабліва падыходзіць для сцэнарыяў з высокімі патрабаваннямі да дакладнасці і стабільнасці апрацоўкі.

1. Асноўныя функцыі

(1) Высокая магутнасць і высокая энергія імпульсу

Сярэдняя магутнасць: 40 Вт (@1064 нм), некаторыя мадэлі могуць дасягаць 60 Вт.

Энергія аднаго імпульсу: да 2 мДж (у залежнасці ад частаты паўтарэння).

Частата паўтарэння: 1–300 кГц (рэгуляваная), для задавальнення розных патрабаванняў да апрацоўкі.

(2) Выдатная якасць прамяня

М² < 1,3 (блізка да мяжы дыфракцыі), малая пляма фокусу, канцэнтраваная энергія.

Прамень Гаўса, прыдатны для высокадакладнай мікраапрацоўкі.

(3) Гнуткае кіраванне пульсам

Рэгуляваная працягласць імпульсу: 10–50 нс (тыповае значэнне), аптымізуючы эфект апрацоўкі розных матэрыялаў.

Знешні трыгер: падтрымлівае мадуляцыю TTL/PWM, сумяшчальны з сістэмамі аўтаматычнага кіравання.

(4) Надзейнасць прамысловага ўзроўню

Цвёрдацельны дызайн (без лямпавай помпы), тэрмін службы >20 000 гадзін.

Паветранае астуджэнне або вадзяное астуджэнне дадаткова, адаптавацца да розных працоўных умоў.

2. Асноўныя вобласці прымянення

(1) Дакладная мікраапрацоўка

Рэзка далікатных матэрыялаў: шкло, сапфір, кераміка (невялікае тэрмічнае ўздзеянне).

Мікрасвідраванне: друкаваныя платы, паліўныя фарсункі, электронныя кампаненты (высокая дакладнасць).

Выдаленне тонкай плёнкі: сонечныя батарэі, тручэнне праводнага пласта ITO.

(2) Лазерная маркіроўка і гравіроўка

Маркіроўка металу: нержавеючая сталь, алюмініевы сплаў, тытанавы сплаў (высокая кантраснасць).

Гравіроўка на пластыку/кераміцы: без карбанізацыі, выразныя краю.

(3) Навуковыя даследаванні і выпрабаванні

LIBS (спектраскапія лазернага прабоя): плазма ўзбуджэння імпульсаў высокай энергіі для элементнага аналізу.

Лазерны радар (LIDAR): атмасфернае выяўленне, дыстанцыйнае зандзіраванне.

(4) Медыцына і прыгажосць

Апрацоўка скуры: выдаленне пігмента, выдаленне татуіроўкі (лепш мадэль 532 нм).

Стаматалагічныя прымянення: абляцыя цвёрдых тканін, адбельванне зубоў.

3. Тэхнічныя параметры (тыповыя значэнні)

Параметры EF40 (1064 нм) EF40 (532 нм, неабавязкова)

Даўжыня хвалі 1064 нм 532 нм (падвоеная частата)

Сярэдняя магутнасць 40 Вт 20 Вт

Энергія імпульсу 2 мДж (@20 кГц) 1 мДж (@20 кГц)

Частата паўтарэння 1–300 кГц 1–300 кГц

Шырыня імпульсу 10-50 нс 8-30 нс

Якасць прамяня (М²) <1,3 <1,5

Спосаб астуджэння Паветранае астуджэнне/вадзяное астуджэнне Паветранае астуджэнне/вадзяное астуджэнне

4. Параўнанне канкуруючых прадуктаў (EF40 супраць валакна/CO₂ лазера)

Асаблівасці EF40 (DPSS) Валаконны лазер CO₂ лазер

Даўжыня хвалі 1064/532 нм 1060–1080 нм 10,6 мкм

Энергія імпульсу Высокая (узровень у мДж) Ніжняя (мкДж–мДж) Высокая (але з вялікім цеплавым уздзеяннем)

Якасць прамяня M² <1,3 M² <1,1 M² ~1,2–2

Прыдатныя матэрыялы Метал/неметал На аснове металу Неметал (пластмаса/арганіка)

Патрабаванні да тэхнічнага абслугоўвання Нізкія (пампоўка без лямпаў) Вельмі нізкія Неабходнасць рэгулявання газу/лінзы

5. Рэзюмэ пераваг

Высокая энергія імпульсу: падыходзіць для ўдарнай апрацоўкі, такой як свідраванне і рэзка.

Выдатная якасць пучка: дакладная мікраапрацоўка (M²<1,3).

Стабільнасць прамысловага класа: цалкам цвёрдацельная канструкцыя, доўгі тэрмін службы, не патрабуе абслугоўвання.

Даступна некалькі даўжынь хваль: 1064 нм (інфрачырвоны) і 532 нм (зялёнае святло) даступныя для адаптацыі да розных матэрыялаў.

Прыдатныя галіны:

Электронная вытворчасць (друкаваныя платы, паўправаднікі)

Дакладная апрацоўка (шкло, кераміка)

Навуковыя даследчыя эксперыменты (LIBS, LIDAR)

Медыцынская прыгажосць (лячэнне скуры, стаматалогія